第684章 视察星源 前夕

三天后，深市新任市委书记秦浩然准时抵达星源探索。

没有冗长的欢迎仪式，没有成群的记者围堵，只有总负责人曲峰与几名实验室技术负责人在楼下等候，简单握手后，便直接进入研发楼。

秦浩然一身深色正装，气质沉稳干练，走路步伐轻快，眼神锐利，一路很少插话，只是认真观察、仔细倾听。

曲峰一边引路，一边简洁介绍着星源探索的核心布局：“秦书记，这边是我们的材料研发中心，主攻高端锂电池和超导材料，龙国九成的锂电池都需要使用这里研发出的专利。”

秦浩然目光扫过走廊两侧的专利墙，上千项国内外发明专利整齐排列，眼神微微一动：“这些都是近三年拿下的？”

“是的，”曲峰点头，“仅去年一年，我们新增专利就超过5200项，其中90%以上是核心技术专利。”

一行人走进材料实验室，穿着白大褂的科研人员正专注操作着精密仪器，超导材料测试平台上的数据实时跳动，显示着远超行业标准的性能参数。

秦浩然驻足观看，没有打扰实验进程，轻声问道：“现在供应链稳定吗？海外制裁对你们影响大不大？”

“之前半导体联盟联合围剿过，但我们已经实现了核心设备与技术的自主可控。”曲峰语气沉稳，“唯一的外部依赖，已经被我们彻底打破，现在是完全自主研发、自主生产。”

秦浩然微微颔首，没有再多问，继续走向下一个区域。不同以往官员的频繁提问、刻意作秀，他看得认真、问得精准，每一句都落在产业、技术、研发这些实处。

参观完研发中心，一行人来到顶层会议室，楚千澜也刚从繁星科技赶过来。

秦浩然目光落在楚千澜身上，语气诚恳而务实：“楚总，今天过来，一是看看星源探索的真实情况，二是听听你们的难处。上任政府班子给你们造成了不少困扰，我代表市委、市政府，先给你们道个歉。”

楚千澜神色平静，微微起身：“秦书记客气了，过去的事已经过去，我们更看重未来的营商环境。”

“好，有你这句话我就放心了。”秦浩然坦然一笑，直接切入正题，“我今天表个态：第一，深市今后对所有企业一视同仁，国企、民企、外企，只要合法经营、推动科技产业，政策、土地、资源，全部公平开放，绝不搞选择性扶持；

第二，凡是星海系旗下企业，合理的审批、用地、政策申请，相关部门必须绿色通道办理，不设卡、不拖延、不刁难；

第三，市委、市政府不干预企业正常经营，你们专心搞技术、搞研发，外部环境和营商服务，交给我们。”

这番话干脆利落，没有空话套话，让曲峰等高管都微微松了口气。

楚千澜眸色微动，语气也缓和了几分：“秦书记务实，我们也不会含糊。星海系在深市的研发中心、总部基地都会长期扎根，后续恒星航天的配套产业链、新材料实验室，只要环境合适，我们也会优先考虑落地深市。”

秦浩然眼前一亮：“楚总痛快！用地、税收、人才补贴，只要你们提，符合政策的，我们全力配合；不符合政策的，我们研究政策配合。”

双方没有多余的寒暄，短短半小时，就把政企协作的核心问题谈得透彻明白。

会谈结束，秦浩然拒绝了留下用餐的邀请，起身时看向楚千澜：“楚总，我就不打扰你们工作了。今后有任何问题、任何难处，直接让办公室联系我，不用绕弯子。”

楚千澜起身相送：“秦书记慢走，期待深市的新变化。”

送走秦浩然，曲峰忍不住笑道：“这位新书记，和林文涛完全不是一类人，务实、干脆、不摆架子。”

楚千澜淡淡点头，眸色沉静：“营商环境稳了，我们就能把更多精力放在技术和航天布局上。接下来，重心全部转向恒星航天和南朝鲜庭审。”

……

南朝鲜首都。距离半导体联盟诉星源探索专利垄断案开庭仅剩一天，首尔最高商事法院外早已被全球媒体围得水泄不通。

路透社、法新社、龙国国际电视台的转播车一字排开，记者们手持话筒，对着镜头不断播报这场庭审的特殊意义。

这是继扶桑之后，楚千澜与半导体联盟又一次专利诉讼，结果将直接影响全球科技产业格局。

法院旁的五星级酒店会议室里，星源探索驻南朝鲜法务团正连夜核对证据材料，厚厚的技术鉴定报告、专利授权文书、反垄断判例堆成小山。

法务总监陈默揉了揉发胀的太阳穴，将一份标注“绝密”的南朝鲜法院内部评估报告推到桌心：“各位，南朝鲜法院还是没有顶住鹰酱压力，这份评估报告显示，他们倾向于认定我们‘部分专利构成垄断’，想和稀泥各打五十大板。”

团队成员瞬间炸开了锅：

“荒谬！我们的光刻专利是全球原创，明明是半导体联盟长期垄断技术，反倒倒打一耙！”

“扶桑法院的前车之鉴还摆在眼前，他们真敢乱判？”

“四星、海立士那边还是模棱两可，一边派人求和，一边在法庭上配合联盟举证，典型的两面三刀！”

……

陈默抬手压了压众人的情绪，指尖在评估报告上重重一点，语气凝重却不失镇定：“大家冷静，南朝鲜法院的‘和稀泥’，本质上是想既不得罪鹰酱，又不想彻底激怒我们。”

他拿起一份文件，眼神锐利：“而且，我刚收到消息，膏通那边派了高级顾问连夜抵达首尔，直接介入了法官团队的最终商议，明着是‘提供专业意见’，实则是逼法院偏向半导体联盟。

更麻烦的是，东芝半导体提交了一份‘新证据’，声称我们的20纳米光刻参数，与他们多年前未公开的研发方案存在‘高度相似性’，试图混淆视听。”